底片尺寸的稳定性随环境的温度和贮存时间而变化。所以,底片的生产、贮存和使用采用恒温的环境,采用厚底片也能提高照相底片的尺寸稳定性。
曝光后,聚合反应还要持续一段时间,为保证工艺的稳定性,曝光后不要立即揭去聚酯膜,以使聚合反应持续进行。待显影前再揭去聚膜。
取一张冲好定位孔的底片去编钻孔程序,便能得到同时钻出元件孔和定位孔的数据带或数据盘,一次性钻出元件孔及定位孔,在孔金属化后预镀铜,便可用双圆孔脱销定位曝光。曝光显影直接决定蚀刻图案的准确性,因此在菲林的制作上,使图形转印到玻璃之上。根据不同油墨的特性以及不同颜色油墨的遮蔽特点,重复以上制程。其中曝光部位电位低于显影辊表面电位低于感光鼓未曝光部位电位。多用在数码复合机与激光打印机中。当照相底片上的光密度小于2.8时,紫外光可透过底片上的不透明区,使不透明区下面的干膜局部发生聚合;当底片上的光密底大于o.2时,曝光显影作为玻璃外观修饰的重要工艺,目前技术工艺方面都已趋于稳定,众多设备厂家涉猎这方面的技术。3D曲面CG玻璃须与中框的结合,但是3D曲面玻璃本身物理加工存在难以去除的公差,进行曝光工艺加工时工艺区间被压缩,曝光不足,导致单体聚合不,那么在显影过程中,会使的胶膜变软,线条不清晰,色泽暗淡,脱胶。曝光过度,会造成难显影,留有残胶。同时曝光影响图案的线宽,过量曝光会使图形线条变细,蚀刻产品线条变粗。以上信息由专业从事平面曝光显影厂家的利成感光于2024/3/22 11:32:40发布
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